X-Strata920 X射線熒光測厚儀
主機內部包含如下主要配置：
-X射線管和高壓發(fā)生器
-封氣正比探測器和前置放大器
-CCD觀瞄系統和Z軸程控激光對焦系統
-0.3mm直徑圓形準直器，*小可測量點為直徑約0.5mm的圓面
-加深樣品倉/臺，內部尺寸W236*D430*H160mm，*大適宜測量的樣品尺寸為W118*D215*H150mm
-SmartLink儀器控制操作軟件
X-Strata920 設計為面向電子產品和金屬表面處理行業(yè)，測量單層和多鍍層（包括合金層）。我們的內部應用專家對 X-Strata920 進行了優(yōu)化，確保您獲得可靠、可重復結果滿足數百種應用，包括 PCB 表面處理、連接器鍍層、耐腐蝕處理、裝飾表面處理、耐磨損處理、耐高溫處理等。
X-Strata920 **到毫英寸或微米，為您帶來所需的高精度可靠結果。
X-Strata920 X射線熒光測厚儀隨主機的標準配件：
-電腦一臺，包括Dell主機，鍵盤，鼠標和Windows操作系統
-儀器開機鑰匙一個；
-操作說明書（電子版）；
-波譜校準片一塊；
-出廠證書一套；
（儀器主要參數規(guī)格請參考報價附件）
備注：顯示器用戶自行購置
標準片一套（共11片），
包含金，銀，銅，錫，鎳“純元素”各一片；
包含銀薄膜標準片1片，鎳薄膜片2片；金薄膜標準片1片，錫薄膜片1片，銅薄膜標準片1片
X-Strata920 X射線熒光測厚儀
|
序號 |
項目 |
內容 |
|
1 |
測量方向 （射線照射方向） |
從上往下，即使樣品表面有一定的幅度或不平整等情況也可輕易對焦 |
|
2 |
外形尺寸 |
寬x深x高[mm]： 約407 x 770 x 400 mm（不含電腦等） |
|
3 |
井深式樣品臺 |
“井深式”樣品倉設計，可以測量很小到很大的廣泛尺寸的樣品/零件 ，可放置樣品*大高度為150mm 。樣品臺支架可放置在“深井”中的4個位置的卡槽上，使得不同樣品都可以方便地測量。 樣品臺支架放置在標準位置（*上層）時，就是“開槽式樣品倉”，可以測量大型平板樣品，如尺寸大于儀器寬度的印制線路板或小型的連接器，接插件樣品。所有樣品可以很方便地放置并定位到待測點。 Z軸自動控制（Z向行程：43mm） 樣品倉內部尺寸：236 x 430 x 160mm (寬x深x高) |
|
4 |
X射線源 |
超薄Be窗微聚焦W陽極靶射線管 產生高通量X射線，經過準直器，得到細束X射線。 這個“聚焦X射線束”可對小樣品或者樣品上小測試點進行高精度的分析。 |
|
5 |
高壓發(fā)生器 |
50 kV, 1.0 mA (50 W) 高壓發(fā)生器，高壓多檔可調 |
|
6 |
二次濾光片 |
鈷二次濾光片，用于準確校正銅鎳之間的相互干擾，合適鎳層的**測量。 |
|
7 |
準直器 |
0.3 mm ?圓形準直器，*小測量點是直徑約0.5mm的圓形，適合大多數類型的樣品。 |
|
8 |
X射線接收器 （探測器） |
高分辨率、大面積、封氙氣的正比例計數器（PC） 結合二次濾波器來*大化靈敏度，以獲得*佳元素檢測 |
|
9 |
數字脈沖處理器 |
4096 通道（CH）數字多道處理器 含死時間校正和脈沖累積消除功能的自動信號處理 |
|
10 |
視屏系統 |
彩色CCD，30倍光學放大， 200%、300%和400%數字放大。樣品分析區(qū)域在用戶界面顯示，清晰、易用。 |
|
11 |
Z軸自動對焦系統 |
鐳射用于Z軸自動**定位X射線光管/檢測器與被測樣品到*佳測試距離。 “一鍵操作”將Z軸測試頭移動到*佳位置，同時將樣品圖像定焦（顯示在屏幕上）。 自動而簡單的操作提高儀器測試的再現性，并將人為測量誤差降到*低。 注：*佳測試距離為12.7mm，由X射線測試頭自動調節(jié)高度（Z軸）。 |
|
12 |
電源 |
85~130 或 215~265 伏特，頻率范圍47Hz到63Hz |
|
13 |
能耗 |
小于1000W |
|
14 |
工作溫度 |
10°C至40°C |
|
15 |
空氣相對濕度 |
相對濕度≤ 98 %, 無冷凝水 |
|
16 |
計算機 |
CPU：Intel Core 2 Duo E7500 2.93GHz 硬盤： 500Gb，內存：2Gb，DVDRW 注：由于計算機系統更新快速，實際配置等同或優(yōu)于上述規(guī)格。 |
|
17 |
操作系統 |
MicrosoftTM Windows |
報價附件之儀器主要規(guī)格參數 二（對應報價單號：）
|
序號 |
項目 |
內容 |
|
18 |
可測量的鍍層 元素范圍 |
元素周期表中22號鈦元素到92號鈾元素 |
|
19 |
可測量的鍍層層數 |
*多可同時測量4層（不含基材） |
|
20 |
可測鍍層厚度范圍 |
通常約0.03微米到30微米，根據不同鍍層元素和鍍層結構不同而不同。 |
|
21 |
典型準確性 |
**層（*表面層）：±0.025微米或±5%以較大者計，或更好； **次（次表面層）：±0.050微米或±10%以較大者計，或更好； 第三層 ： ±0.075微米或±15%以較大者計，或更好； （按操作規(guī)程，采用0.3mm準直器，對隨儀器配置的標準片進行連續(xù)10次測量，測量平均值與標準片標稱值之間的差異作為準確性數據） |
*持續(xù)改進是我們的宗旨，對上述參數，我們保留在不通知的情況下做調整的權力。